[发明专利]窄谱带无镉发光半导体纳米晶及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202210601670.3 申请日: 2022-05-30
公开(公告)号: CN115011333A 公开(公告)日: 2022-09-06
发明(设计)人: 唐爱伟;林欧阳 申请(专利权)人: 北京交通大学
主分类号: C09K11/62 分类号: C09K11/62;C09K11/02;B82Y20/00;B82Y40/00
代理公司: 北京市商泰律师事务所 11255 代理人: 邹芳德
地址: 100044 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种窄谱带无镉发光半导体纳米晶及其制备方法,属于半导体材料技术领域,包括制备谱带无镉发光半导体纳米晶使用的药品为I族、Ⅲ族金属盐及Ⅵ族单质、化合物;光致发光光谱半峰全宽(FWHM)小于45nm;光致发光峰位于540nm‑585nm区间。本发明实现了I‑III‑VI族半导体纳米晶FWHM小于45nm的窄谱带发光;在维持光致发光峰的FWHM均小于45nm同时,实现了光谱范围在540‑585nm内范围可调,获得了绿、黄、橙三种AIS@GaSx半导体纳米晶;所使用的合成方案产物随反应时间增加不会产生发光性能的突变,更易于对不同批次产物的性能进行控制;能够获得光致发光光谱中位于600–800nm处缺陷发射更低的发光材料。
搜索关键词: 窄谱带无镉 发光 半导体 纳米 及其 制备 方法
【主权项】:
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