[发明专利]一种双SLM协同调制提高数字光刻图形边缘平滑度的方法在审
| 申请号： | 202210609733.X | 申请日： | 2022-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN114895534A | 公开（公告）日： | 2022-08-12 |
| 发明（设计）人： | 罗宁宁;张静雅;王岩磊;匡珺洁 | 申请（专利权）人： | 南昌航空大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 南昌洪达专利事务所 36111 | 代理人： | 吴启楼 |
| 地址： | 330000 江*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种双SLM协同调制提高数字光刻边缘平滑度的方法，首先以SLM单像素尺寸为离散采样周期，对待曝光连续二维图形进行离散采样，形成一幅二维离散图形，再将其拆分为多幅独立的二维离散子图，依次将所有二维离散子图同时分配给分配给SLM1和SLM2显示，通过计算机控制SLM1和SLM2分别按预先设定好的曝光时间依次同时投影二维离散子图在涂覆光刻胶的基底上同一位置进行叠加曝光，最终可在光刻胶上形成光刻图形；本发明所述的方法通过两个SLM协同调制来实现多幅二维离散子图叠加曝光，可有效改善因SLM固有结构特征引入的图形边缘锯齿现象，从而获得高分辨率的数字光刻制作。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 slm 协同 调制 提高 数字 光刻 图形 边缘 平滑 方法 | ||
【主权项】：
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