[发明专利]一种铌酸锂单面抛光片背面不良的返工方法有效

专利信息
申请号: 202210620244.4 申请日: 2022-06-02
公开(公告)号: CN114695643B 公开(公告)日: 2022-09-06
发明(设计)人: 徐秋峰;濮思麒;沈浩;张忠伟;钱煜;张伟明;汪万盾;曹焕 申请(专利权)人: 天通控股股份有限公司
主分类号: H01L41/337 分类号: H01L41/337;H01L21/683
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 314412 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种铌酸锂单面抛光片背面不良的返工方法,包括如下步骤:将铌酸锂单面抛光片进行检验,将检验出背面不良的晶片进行标记;将标记的晶片放入碱性清洗液中超声清洗;将清洗后的晶片抛光面进行贴膜;将两片贴膜后晶片的贴膜面粘合,获得粘合工件;将粘合工件进行双面研磨;将研磨后的粘合工件清洗并脱膜。本发明通过工艺改进,提高产品良品率,返工后的单面抛光片具有背面粗糙度一致性好、平坦度指标高、加工效率高、生产成本低、工艺易实现和易监控等特点,能够满足产业化大规模批生产的要求。
搜索关键词: 一种 铌酸锂 单面 抛光 背面 不良 返工 方法
【主权项】:
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