[发明专利]垂直发光二极管及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202210626478.X 申请日: 2022-06-02
公开(公告)号: CN115148870A 公开(公告)日: 2022-10-04
发明(设计)人: 郭茂峰;高默然;郑锦坚;毕京锋;沈侠强;金全鑫;王思琦 申请(专利权)人: 厦门士兰明镓化合物半导体有限公司
主分类号: H01L33/10 分类号: H01L33/10;H01L33/14;H01L33/36;H01L33/00
代理公司: 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 代理人: 钟玉敏
地址: 361012 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明提供了一种垂直发光二极管及其制备方法,利用ODR反射层的金属反射层和绝缘反射层与外延层构成MIS电容结构,令第二电极连接相对较高的电位,第三电极连接相对较低的电位,使得外延层中的发光层发光,同时,令第一电极连接相对较高的电位,令第三电极连接相对较低的电位,使得电子从外延层的第一半导体层向发光层聚集,空穴从外延层的第二半导体层向发光层中聚集,提高了空穴注入效率,增加发光层中的辐射复合效率,在不降低辐射复合发光的透射效率的同时提高了光电转化效率,且成本低;本发明仅对现有的垂直发光二极管稍加改进,不会显著增加结构和制备工艺的复杂程度。
搜索关键词: 垂直 发光二极管 及其 制备 方法
【主权项】:
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