[发明专利]一种提高正型光刻胶厚膜分辨率的光刻方法在审
| 申请号： | 202210641171.7 | 申请日： | 2022-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN114859676A | 公开（公告）日： | 2022-08-05 |
| 发明（设计）人： | 冯云云;贾斌;豆秀丽;常唯淑;王伟;冯培龙;王奇;李涛 | 申请（专利权）人： | 明士（北京）新材料开发有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;G03F7/30;G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 吴爱琴 |
| 地址： | 101399 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种提高正型光刻胶厚膜分辨率的光刻方法，属于光刻胶曝光显影工艺技术领域。该工艺立足于提高厚膜(＞20μm)光刻胶的分辨率，通过在曝光显影过程中，添加阻溶剂，抑制未曝光区的溶解，进而增强曝光区和未曝光区的溶解对比度，再结合多次曝光/多次显影的工艺过程。该方法可以降低曝光时间，减少膜厚损失，提高留膜率及图案分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 光刻 胶厚膜 分辨率 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于明士（北京）新材料开发有限公司，未经明士（北京）新材料开发有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210641171.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种转角推拉门结构
- 下一篇：一种建筑工程施工用支架结构及组装式降尘设备
