[发明专利]一种光刻胶低温固化厚膜的制备方法有效
| 申请号： | 202210662402.2 | 申请日： | 2022-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN115016229B | 公开（公告）日： | 2023-04-11 |
| 发明（设计）人： | 冯云云;贾斌;豆秀丽;常唯淑;王伟;唐新颖;王奇;李涛 | 申请（专利权）人： | 明士（北京）新材料开发有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;G03F7/16;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 吴爱琴 |
| 地址： | 101399 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光刻胶低温固化厚膜的制备方法。包括：1)在晶圆上涂覆光敏性树脂组合物胶液，匀胶，前烘，得到厚膜；2)曝光；3)显影；4)固化，得到含第一层固化膜的晶圆；5)贴覆干膜：在上述晶圆的第一层固化膜上贴覆干膜作为后续继续匀胶的支撑膜；6)在所述干膜上继续重复步骤1)‑4)匀胶、曝光、显影及固化操作，得到含有二层固化膜的晶圆；7)在所得含有二层固化膜的晶圆上以步骤5)的方法再次贴覆一层干膜，然后重复步骤1)‑3)中匀胶、曝光、显影操作，将得到的光刻图形烘烤，得到最终的光刻图案固化膜。该工艺降低了厚膜的曝光能量，提高了留膜率及图案分辨率，同时该固化膜还有优异的力学热学及耐化性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 低温 固化 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于明士（北京）新材料开发有限公司，未经明士（北京）新材料开发有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210662402.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
