[发明专利]半导体装置及功率放大器在审
申请号: | 202210684543.4 | 申请日: | 2022-06-17 |
公开(公告)号: | CN115498032A | 公开(公告)日: | 2022-12-20 |
发明(设计)人: | 黄皆智;林彦丞;林正国;王伟州;林哲楷 | 申请(专利权)人: | 稳懋半导体股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/778 | 分类号: | H01L29/778;H01L29/10 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 王涛;叶明川 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: |
本发明公开了一种半导体装置及功率放大器,所述半导体装置包括:衬底;沟道层,设置于衬底上,其中沟道层是以氮化镓形成;阻挡层,设置于沟道层上,其中阻挡层是以氮化铝镓Al |
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搜索关键词: | 半导体 装置 功率放大器 | ||
【主权项】:
暂无信息
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