[发明专利]气体传输装置、方法和半导体沉积设备

摘要

本发明涉及半导体设备技术领域，提供了一种气体传输装置、方法和半导体沉积设备。气体传输装置包括：进气传输单元和喷淋头，进气传输单元包括第一进气管道、第二进气管道、连通管道和截止阀，第一进气管道与第二进气管道之间设置连通管道，连通管道上设置截止阀；喷淋头分为第一喷淋分区和第二喷淋分区，第一喷淋分区与第一进气管道连接，第二喷淋分区与第二进气管道连接，第一喷淋分区和第二喷淋分区之间彼此独立不互通。通过设置独立进气管道和喷淋分区，控制进入各管道的气体，解决了反应腔室内气体分布不均的技术问题，达到了提高薄膜均匀性和清除效率的技术效果。