[发明专利]一种立式双温区-双通道化学气相沉积设备有效

专利信息
申请号: 202210726752.0 申请日: 2022-06-24
公开(公告)号: CN115094402B 公开(公告)日: 2023-04-11
发明(设计)人: 黄晓青;张松;王鹏飞;张辉;王冬;刘爽 申请(专利权)人: 清华大学;锦州市三特真空冶金技术工业有限公司
主分类号: C23C16/46 分类号: C23C16/46;C23C16/26
代理公司: 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 代理人: 苟冬梅
地址: 100084*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请涉及化学气相沉积领域,具体而言,涉及一种立式双温区‑双通道化学气相沉积设备,包括:沉积炉,沉积炉内包括介质容置区,介质容置区将沉积炉的内部腔室划分为上加热区和下加热区;介质容置区用于容置多孔介质,多孔介质用于沉积制备复合材料;第一加热体,用于对上加热区进行加热,以对多孔介质面向上加热区的一端进行加热;第二加热体,用于对下加热区进行加热,以对多孔介质面向下加热区的一端进行加热;其中,在沉积阶段时,第一加热体的功率不同于第二加热体的功率,以使多孔介质的上下两端的温度不同形成温差,从而本申请提供的化学气相沉积设备可以对多孔介质上下两端分别进行致密化,从而实现整个多孔介质的均匀致密。
搜索关键词: 一种 立式 双温区 双通道 化学 沉积 设备
【主权项】:
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