[发明专利]具有空气内部间隔件的纳米结构晶体管及其形成方法在审
| 申请号： | 202210788373.4 | 申请日： | 2022-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN115995481A | 公开（公告）日： | 2023-04-21 |
| 发明（设计）人： | 刘威民;温政彦;舒丽丽;李启弘;杨育佳 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/06 | 分类号： | H01L29/06;H01L21/336;H01L29/78 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 桑敏 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开总体涉及具有空气内部间隔件的纳米结构晶体管及其形成方法。一种方法包括形成层堆叠，该层堆叠包括多个半导体纳米结构和多个牺牲层。多个半导体纳米结构和多个牺牲层交替地布置。该方法还包括使多个牺牲层横向凹陷以形成横向凹部；在横向凹部中形成内部间隔件；以及从多个半导体纳米结构外延生长源极/漏极区域。源极/漏极区域通过空气内部间隔件与内部间隔件分隔开。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 空气 内部 间隔 纳米 结构 晶体管 及其 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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