[发明专利]前驱体(101)和(001)晶面的XRD衍射强度比值的调控方法在审

专利信息
申请号: 202210797169.9 申请日: 2022-07-08
公开(公告)号: CN115072804A 公开(公告)日: 2022-09-20
发明(设计)人: 李玉云;张海艳;胡志兵;胡海诗;刘庭杰;付家帅;曾永详;周春仙;刘玮;乔凡 申请(专利权)人: 金驰能源材料有限公司;湖南长远锂科新能源有限公司;湖南长远锂科股份有限公司
主分类号: C01G53/00 分类号: C01G53/00
代理公司: 北京天盾知识产权代理有限公司 11421 代理人: 李琼芳
地址: 410203 湖南省长沙*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明属于电池材料技术领域,公开了正极材料的前驱体的(101)晶面和(001)晶面的XRD衍射强度比值的调控方法。共沉淀法合成前驱体的过程包含两个阶段:成核阶段和生长阶段;为反应体系的上清液的碱度值,单位为g/L;为组成前驱体的主金属的盐溶液的流量,为沉淀剂溶液的流量,为络合剂溶液的流量,单位均为ml/min;成核阶段在惰性气体或氮气气体保护下进行,控制60A80;成核阶段结束后,进入生长阶段;生长阶段,60<A<160。在生长阶段,A的数值越大,制备得到的前驱体的I(101)/I(001)数值越大。
搜索关键词: 前驱 101 001 xrd 衍射 强度 比值 调控 方法
【主权项】:
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