[发明专利]超临界光气化反应制备异氰酸酯的方法有效

专利信息
申请号: 202210798380.2 申请日: 2022-07-06
公开(公告)号: CN115108942B 公开(公告)日: 2023-10-27
发明(设计)人: 薛永和;陆成樑;刘文杰;刘佳特;袁海新;邱贵森 申请(专利权)人: 摩珈(上海)生物科技有限公司
主分类号: C07C263/10 分类号: C07C263/10;C07C265/14;C07C265/04;C07C265/12
代理公司: 北京市君合律师事务所 11517 代理人: 黄遵玲;顾云峰
地址: 201303 上海市浦东新区自*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 本申请涉及一种制备异氰酸酯的方法。具体地,本申请提供了一种在超临界条件下进行光气化反应来制备异氰酸酯的方法,所述方法包括以下步骤:(a)将反应物胺料流和光气料流在‑5至5℃的温度下进行混合,得到反应物胺和光气的混合物;(b)将步骤(a)得到的混合物的温度调节为182℃~205℃,使得所述光气处于超临界状态,在超临界反应器中进行反应至少20分钟;(c)将所述超临界反应器的温度调节至200℃以上,搅拌反应至少2小时。
搜索关键词: 临界 气化 反应 制备 氰酸 方法
【主权项】:
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