[发明专利]一种含氟离子的氧化硅蚀刻液及其应用在审
| 申请号： | 202210813717.2 | 申请日： | 2022-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN115368898A | 公开（公告）日： | 2022-11-22 |
| 发明（设计）人： | 孙秀岩;王倩 | 申请（专利权）人： | 张家港安储科技有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/00 | 分类号： | C09K13/00;C09K13/08;C30B29/18;C30B33/10;H01L21/311 |
| 代理公司： | 苏州启华专利代理事务所(普通合伙) 32357 | 代理人： | 徐伟华 |
| 地址： | 215600 江苏省苏州市张家港*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种含氟离子的氧化硅蚀刻液，按照总质量百分比100%计，包括以下原料组分：含氟离子的化合物0.05‑10%、有机酸0.1‑20%、糖醇0.1‑20%，剩余为超纯水。该蚀刻液通过采用含氟离子的化合物能够根据需要有效地全部或部分去除氧化硅，另外通过有机酸和糖醇的添加，可以防止氧化硅蚀刻中或者蚀刻后在清洗过程中硅化合物聚合成为氧化硅纳米粒子从而在基底表面发生再沉积的情况，同时还能保护可能暴露在外的其他基底材料如氮化硅和多晶硅材料不受损伤。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离子 氧化 蚀刻 及其 应用 | ||
【主权项】：
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