[发明专利]无掩膜制备二硫化钼微孔图案的方法有效
| 申请号： | 202210847399.1 | 申请日： | 2022-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN115231616B | 公开（公告）日： | 2023-06-16 |
| 发明（设计）人： | 陶涛;蒋砚南;蒋迪;严羽;赵红;谢自力 | 申请（专利权）人： | 南京大学 |
| 主分类号： | C01G39/06 | 分类号： | C01G39/06;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 江苏斐多律师事务所 32332 | 代理人： | 张佳妮 |
| 地址： | 210046 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种无掩膜制备二硫化钼微孔图案的方法，其步骤包括：(1)、将二硫化钼膜转移到衬底上，所述衬底上已经制备好待转移的周期性图案；(2)、常压、空气氛围中升温，达到指定温度后，通入惰性气体保温一段时间，得到上有与衬底图案相对应的周期性图案的二硫化钼膜。本发明方法操作简单，设备要求低，而且能减小多余杂质引入。 | ||
| 搜索关键词： | 无掩膜 制备 二硫化钼 微孔 图案 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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