[发明专利]闪耀光栅的制造方法在审
| 申请号： | 202210861036.3 | 申请日： | 2022-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN115308826A | 公开（公告）日： | 2022-11-08 |
| 发明（设计）人： | 崔波;严正;朱效立;潘艾希 | 申请（专利权）人： | 杭州探真纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 杭州中港知识产权代理有限公司 33353 | 代理人： | 裴大牛 |
| 地址： | 310000 浙江省杭州市拱墅区*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供一种闪耀光栅的制造方法，包括以下步骤：在光栅基底上形成图案；采用掩膜材料在所述光栅基底上形成刻蚀掩膜，所述掩膜材料填充满所述光栅基底图案中的空隙；去除所述光栅基底表面的刻蚀掩膜，直至所述光栅基底的图案被露出，填充在所述光栅基底图案空隙中的的掩膜材料不会被去除；对所述光栅基底进行倾斜角度刻蚀，得到需要的闪耀光栅结构；去除剩余的掩膜材料。通过本发明的方法可以实现纳米尺寸光栅的制造，形成的图案具有更高精确度；本方法重复性高，光栅高度可确定或者可由刻蚀速率与时间控制，宽度由两侧掩膜材料的距离确定。 | ||
| 搜索关键词： | 闪耀 光栅 制造 方法 | ||
【主权项】：
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