[发明专利]一种铬硅合金溅射靶材的制备方法有效
| 申请号： | 202210877583.0 | 申请日： | 2022-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN115110044B | 公开（公告）日： | 2023-09-12 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;潘杰;杨慧珍;廖培君;黄东长 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;B22F9/04;B22F3/16;C22C1/05;C22C27/06;C22C28/00 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 韩承志 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种铬硅合金溅射靶材的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：(1)混合铬粉和硅粉，得到混粉料；(2)将步骤(1)得到的所述混粉料进行预烧处理，得到预烧坯；所述预烧处理包括依次进行的第一预烧、第二预烧和第一加压；(3)将步骤(2)得到的所述预烧坯进行烧结处理，得到所述铬硅合金溅射靶材。本发明提供的制备方法可以有效避免靶材出现开裂的问题，提高靶材的良品率，并且进一步提高靶材的致密度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 合金 溅射 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波江丰电子材料股份有限公司，未经宁波江丰电子材料股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210877583.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
