[发明专利]一种基于黑硅的表面增强拉曼光谱基底制备方法在审

专利信息
申请号: 202210914489.8 申请日: 2022-07-29
公开(公告)号: CN115287606A 公开(公告)日: 2022-11-04
发明(设计)人: 张书耀;张普;张笑墨;朱香平;王博;任文贞;赵卫;白晋涛 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
主分类号: C23C14/30 分类号: C23C14/30;C23C14/26;C23C14/16;C23C14/02;C23C14/58;G01N21/65;B23K26/38;B23K26/402
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 杨引雪
地址: 710119 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种光学材料制备方法,具体涉及一种基于黑硅的表面增强拉曼光谱基底制备方法,以解决现有技术通常都涉及较为复杂的材料合成以及加工工艺,难以实现短时间内大规模制备的技术问题。该制备方法,包括以下步骤:S1.1在SF6氛围中,通过飞秒激光进行辐照,获得黑硅;将黑硅通过激光切割为黑硅切片;S1.2通过蒸发镀膜的方式,在黑硅切片表面沉积不同厚度的贵金属薄膜,获得黑硅基底;将多片黑硅基底分别浸入到不同浓度的4‑MBA标准乙醇溶液中,然后取出并干燥;采集各黑硅基底表面的拉曼光谱,以拉曼光谱中4‑MBA分子特征峰峰值最大值对应的黑硅基底表面贵金属薄膜厚度,作为贵金属薄膜的最优厚度;S2制备表面增强拉曼光谱基底。
搜索关键词: 一种 基于 表面 增强 光谱 基底 制备 方法
【主权项】:
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