[发明专利]一种上电极组件及半导体处理设备

摘要

本申请公开了一种上电极组件及半导体处理设备，上电极组件应用于工艺腔室，工艺腔室包括腔室本体和腔室盖板，上电极组件包括：支架设置于腔室盖板的顶面；连接筒贯穿腔室盖板并通过波纹管与腔室盖板连接；匀气盘设置在腔室本体内部且与连接筒连接；调平结构连接于连接筒的一端；升降驱动结构连接在支架与调平结构之间，用于通过调平结构带动连接筒和匀气盘升降，调平结构、连接筒和匀气盘与升降驱动结构同轴设置。本申请升降驱动结构的驱动力与被驱动部件的重力基本位于同一竖直线上，匀气盘上下运动时与下电极的平行度基本不受影响，可以提高边缘刻蚀的均匀性。