[发明专利]物理气相沉积技术制备氮碳化锆膜层的制备方法在审
| 申请号： | 202210941444.X | 申请日： | 2022-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN115449745A | 公开（公告）日： | 2022-12-09 |
| 发明（设计）人： | 张欣欣 | 申请（专利权）人： | 张欣欣 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C14/06 |
| 代理公司： | 浙江新篇律师事务所 33371 | 代理人： | 龚玉平 |
| 地址： | 474150 河南省南*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明涉及氮碳化锆膜层领域，且公开了物理气相沉积技术制备氮碳化锆膜层的制备方法，包括以下步骤：第一步：对预加工基材表面进行氮化处理，将基体材料置于物理气相沉积设备反应室内的偏转源上，向真空反应室内通入氮气和惰性气体，反应时间20‑1800秒；第二步：在基材表面形成沉积薄膜，关闭氮气，向反应室内通入反应气体，调整气压氛围，使反应气体与氮化处理后的基体材料进行反应，进行偏压电流处理；第三步：得到附着有氮碳化锆膜层的基材材料，该物理气相沉积技术制备氮碳化锆膜层的制备方法，氮碳化锆膜层因注入了碳原子，有着优异的抗粘黏特性，在刀具加工中可以大大降低摩擦系数，使排屑更顺畅，加工面更光滑，增加刀具使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 物理 沉积 技术 制备 碳化 锆膜层 方法 | ||
【主权项】：
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