[发明专利]半导体器件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202210942473.8 申请日: 2022-08-08
公开(公告)号: CN116469880A 公开(公告)日: 2023-07-21
发明(设计)人: 洪嘉明;邱怡瑄;陈相甫;连刚逸;陈俊纮 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L25/16 分类号: H01L25/16;H01L21/50
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 朱亦林
地址: 中国台*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开涉及半导体器件及其制造方法。一种半导体器件包括:第一衬底,具有相反的第一侧和第二侧;第一导电层,位于第一衬底的第一侧上;以及第二衬底,具有相反的第一侧和第二侧。第二衬底的第二侧接合到第一衬底的第一侧。第二衬底包括:半导体材料;以及至少一个电路元件,电耦合到第一导电层。至少一个电路元件包括以下项中的至少一者:肖特基二极管,由半导体材料和第一接触结构配置;电容器,具有半导体材料的第一电极;或半导体材料的电阻器。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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