[发明专利]一种激光干涉光刻系统在审
| 申请号： | 202210969954.8 | 申请日： | 2022-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN115453826A | 公开（公告）日： | 2022-12-09 |
| 发明（设计）人： | 王杰;李娜 | 申请（专利权）人： | 北京华卓精科科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01J9/02 |
| 代理公司： | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人： | 郑哲琦;施磊 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区经济技术开发区科创十*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种激光干涉光刻系统，涉及激光干涉光刻技术领域，所述系统包括：激光器、光路系统、相位检测装置和基底；其中，激光器用于生成激光光源；激光光源经光路系统分光后形成参考光、第一测量光和第二测量光，入射至相位检测装置；相位检测装置用于基于参考光、第一测量光和第二测量光，获得第一测量光与第二测量光之间的相位差，并基于该相位差向光路系统反馈补偿指令；光路系统还用于接收补偿指令，基于该补偿指令消除上述相位差，获得无相位差的两束曝光光束；无相位差的两束曝光光束用于在基底上形成预设图案。本发明提供的技术方案，采用一种更加精确的相位测量方式，从而能够获得更加精确的光栅图案。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 干涉 光刻 系统 | ||
【主权项】：
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