[发明专利]掩膜版及显示面板在审
| 申请号： | 202210992979.X | 申请日： | 2022-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN115394640A | 公开（公告）日： | 2022-11-25 |
| 发明（设计）人： | 梁海霞;孙立志 | 申请（专利权）人： | 苏州华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/308 | 分类号： | H01L21/308;H01L27/12 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 马广旭 |
| 地址： | 215000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请公开了一种掩膜版及显示面板，所述掩膜版设置有多个显示单元图案，所述显示单元图案包括：源极图案与漏极图案，所述源极图案与所述漏极图案之间形成有沟道图案；其中所述掩膜版上不同区域内的所述显示单元图案的所述沟道图案的宽度不同。所述掩膜版上的所述沟道图案的宽度为预设宽度，在显示面板制备过程中，刻蚀液浓度较高的位置对应预设宽度较小的位置，以使该位置的所述沟道的实际宽度大于预设宽度；刻蚀液浓度较低的位置对应预设宽度较大的位置，以使该位置的所述沟道的实际宽度小于或等于预设宽度；从而在显示面板上制备出沟道宽度均匀的所述显示单元图案。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 显示 面板 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州华星光电技术有限公司，未经苏州华星光电技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210992979.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
