[发明专利]一种显影线的内层酸洗蚀刻工艺及装置在审

专利信息
申请号: 202210994272.2 申请日: 2022-08-18
公开(公告)号: CN115361790A 公开(公告)日: 2022-11-18
发明(设计)人: 何福权 申请(专利权)人: 深圳和美精艺半导体科技股份有限公司
主分类号: H05K3/06 分类号: H05K3/06;H05K3/00
代理公司: 深圳市海顺达知识产权代理有限公司 44831 代理人: 罗志伟
地址: 518000 广东省深圳市龙*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种显影线的内层酸洗蚀刻工艺及装置,涉及PCB蚀刻加工领域,解决了现有酸洗过程漫长拉低生产效率问题,包括装置壳体和开设于装置壳体左右两端的槽口,装置壳体的内部前后壁均固定安装有异形导向架,异形导向架的两端均贯穿于槽口,异形导向架的两端部呈翘边状,异形导向架的上下方均安装有若干个呈等距分布的转轴一和转轴二,且两者的前后两端均转动嵌于装置壳体的内部,转轴一和转轴二的外侧均固定套接有两个胶轮,本发明通过异形导向架和传动组件的配合,可将柔性内层板引导至装置壳体的底部进行酸洗溶液的浸泡反应,可实现在短时间内,使柔性内层板表面多余的铜箔全方位充分的反应,并脱落。
搜索关键词: 一种 显影 内层 酸洗 蚀刻 工艺 装置
【主权项】:
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