[发明专利]有机溶剂耐受性提高的卤代烷脱卤酶DhaA突变体及其应用在审

专利信息
申请号: 202211032106.0 申请日: 2022-08-26
公开(公告)号: CN115820598A 公开(公告)日: 2023-03-21
发明(设计)人: 孙彦;吴垠;董晓燕;史清洪 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: C12N9/14 分类号: C12N9/14;C12N15/70;C12N15/55
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 王丽
地址: 300350 天津市津南区海*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明是有机溶剂耐受性提高的卤代烷脱卤酶DhaA突变体及其应用,卤代烷脱卤酶DhaA突变体包括E16R/E257R,氨基酸序列SEQ ID NO.3;E121R/E257R,氨基酸序列SEQ ID NO.4;E16R/E93R/E257R,氨基酸序列SEQ ID NO.5;E16R/E121R/E257R,氨基酸序列SEQ ID NO.6;E93R/E121R/E257R,氨基酸序列SEQ ID NO.7;E16R/E93R/E121R/E257R,氨基酸序列SEQ IDNO.8。本卤代烷脱卤酶DhaA突变体应用提高有机溶剂半衰期至100‑385分钟、提高有机溶剂耐受性至2.5‑4.9倍。
搜索关键词: 有机溶剂 耐受 提高 卤代烷脱卤酶 dhaa 突变体 及其 应用
【主权项】:
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