[发明专利]有机溶剂耐受性提高的卤代烷脱卤酶DhaA突变体及其应用在审
申请号: | 202211032106.0 | 申请日: | 2022-08-26 |
公开(公告)号: | CN115820598A | 公开(公告)日: | 2023-03-21 |
发明(设计)人: | 孙彦;吴垠;董晓燕;史清洪 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | C12N9/14 | 分类号: | C12N9/14;C12N15/70;C12N15/55 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 王丽 |
地址: | 300350 天津市津南区海*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明是有机溶剂耐受性提高的卤代烷脱卤酶DhaA突变体及其应用,卤代烷脱卤酶DhaA突变体包括E16R/E257R,氨基酸序列SEQ ID NO.3;E121R/E257R,氨基酸序列SEQ ID NO.4;E16R/E93R/E257R,氨基酸序列SEQ ID NO.5;E16R/E121R/E257R,氨基酸序列SEQ ID NO.6;E93R/E121R/E257R,氨基酸序列SEQ ID NO.7;E16R/E93R/E121R/E257R,氨基酸序列SEQ IDNO.8。本卤代烷脱卤酶DhaA突变体应用提高有机溶剂半衰期至100‑385分钟、提高有机溶剂耐受性至2.5‑4.9倍。 | ||
搜索关键词: | 有机溶剂 耐受 提高 卤代烷脱卤酶 dhaa 突变体 及其 应用 | ||
【主权项】:
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