[发明专利]调制板透过率分布生成方法、调制板及光刻机照明系统在审
| 申请号： | 202211080390.9 | 申请日： | 2022-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN115542679A | 公开（公告）日： | 2022-12-30 |
| 发明（设计）人： | 张方;黄振鑫;占文杰;曾爱军;黄惠杰 | 申请（专利权）人： | 上海镭望光学科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 秦翠翠 |
| 地址： | 201821 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
调制板透过率分布生成方法，调制板及光刻机照明系统，其中，方法包括步骤：S100：根据预设标准尺寸的平顶高斯照明光场构建沿扫描方向的一维光场分布轮廓I |
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| 搜索关键词： | 调制 透过 分布 生成 方法 光刻 照明 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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