[发明专利]一种钨化学机械抛光液及其应用在审
| 申请号： | 202211087131.9 | 申请日： | 2022-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN115505932A | 公开（公告）日： | 2022-12-23 |
| 发明（设计）人： | 王瑞芹;崔晓坤;卞鹏程;王庆伟;徐贺;李国庆;王永东;卫旻嵩 | 申请（专利权）人： | 万华化学集团电子材料有限公司;万华化学集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F3/06 | 分类号： | C23F3/06;H01L21/321 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 264006 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种钨化学机械抛光液及其应用，所述钨抛光液包括二氧化硅磨料、铁盐催化剂、氧化剂、稳定剂、速率抑制剂、醛基化合物和水。本发明中的速率抑制剂可与醛基化合物生成希夫碱，利用希夫碱键对温度的敏感性，实现被抛光表面不平整度的调节，提高抛光表面质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 及其 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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