[发明专利]一种基于明暗场的晶圆缺陷检测方法在审
| 申请号： | 202211089685.2 | 申请日： | 2022-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN116297468A | 公开（公告）日： | 2023-06-23 |
| 发明（设计）人： | 刘建明;刘庄;张彦鹏 | 申请（专利权）人： | 江苏维普光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88;G01N21/95 |
| 代理公司： | 常州兴瑞专利代理事务所(普通合伙) 32308 | 代理人： | 肖兴坤 |
| 地址： | 213000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种基于明暗场的晶圆缺陷检测方法，方法的步骤中含有：将一目标晶圆置于检测光路中，通过检测光路利用明场光源对目标晶圆采集目标明场图像，通过检测光路利用暗场光源对目标晶圆采集目标暗场图像；通过检测光路利用明场光源对标准晶圆采集标准明场图像，并指定标准明场图像中的无缺陷区域作为配准检测区域；对目标明场图像进行处理，并根据标准明场图像对目标明场图像进行配准操作，得到目标明场图像对应配准检测区域的明场检测区域与配准检测区域的位置偏差；根据得到的位置偏差索引到目标暗场图像的暗场检测区域；对暗场检测区域内的图像进行缺陷检测。它能够提高颗粒缺陷捕获能力，从而提高缺陷检测精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 明暗 缺陷 检测 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏维普光电科技有限公司，未经江苏维普光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202211089685.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
