[发明专利]一种氧化铟锡锌靶材、氧化物薄膜及其制备方法在审
| 申请号： | 202211101171.4 | 申请日： | 2022-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN115418618A | 公开（公告）日： | 2022-12-02 |
| 发明（设计）人： | 陈明飞;刘永成;王金科;郭梓旋;徐胜利;陈明高;江长久;王志杰;莫国仁;李跃辉 | 申请（专利权）人： | 长沙壹纳光电材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/08;C23C14/24;C04B35/457;C04B35/622 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 罗新 |
| 地址： | 410000 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种氧化铟锡锌靶材、氧化物薄膜及其制备方法与应用。本发明的氧化铟锡锌靶材包含In、Sn、Zn、O，以原子摩尔比计In：Sn：Zn＝0.6988：M+N：N，其中，所述M满足0＜M≤0.0199；所述N满足0＜N＜0.33945；所述氧化铟锡锌靶材的相对密度大于99％。采用本发明的氧化铟锡锌靶材制得的氧化物薄膜表面粗糙度低，相对于氧化铟锡靶材其膜层透过率和电阻无显著性变化，具有广泛的应用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氧化 铟锡锌靶材 氧化物 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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