[发明专利]工艺参数调整方法、电子设备、系统及存储介质在审
| 申请号： | 202211173118.5 | 申请日： | 2022-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN115647378A | 公开（公告）日： | 2023-01-31 |
| 发明（设计）人： | 陈国超;熊孝经;孟宪钊;余立滨;谷旭;王磊;农晓东 | 申请（专利权）人： | 季华实验室 |
| 主分类号： | B22F9/10 | 分类号： | B22F9/10;G06T7/00 |
| 代理公司： | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人： | 何秋石 |
| 地址： | 528200 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种工艺参数调整方法、电子设备、系统及存储介质，所述工艺参数调整方法包括以下步骤：获取离心雾化制粉设备的制粉过程图像；将所述制粉过程图像与预设标准图像进行比较，确定液柱尺寸差异值、盘面熔液厚度差异值和液滴撕裂尺寸差异值；根据所述液柱尺寸差异值、所述盘面熔液厚度差异值和所述液滴撕裂尺寸差异值，调整所述离心雾化制粉设备的工艺参数设定值，确定最佳工艺参数设定值。本申请解决了现有技术对离心雾化制粉进行工艺参数调整的效率较低的技术问题。 | ||
| 搜索关键词： | 工艺 参数 调整 方法 电子设备 系统 存储 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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