[发明专利]半导体装置及半导体装置的制造方法在审

专利信息
申请号: 202211175188.4 申请日: 2022-09-26
公开(公告)号: CN116013859A 公开(公告)日: 2023-04-25
发明(设计)人: 中込旭人;谷口克己;加藤辽一;村田悠马 申请(专利权)人: 富士电机株式会社
主分类号: H01L23/04 分类号: H01L23/04;H01L23/10;H01L23/31;H01L23/49;H01L23/538;H01L21/52;H01L21/60;H01L25/16
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 包跃华;金玉兰
地址: 日本神奈*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种半导体装置及半导体装置的制造方法,其实现可靠性高的半导体装置。半导体模块(10)(半导体装置)包括壳体(11)、层叠体(16)以及梁部(17)。壳体为框状,在其一边具有凹部(11a)。层叠体具有依次层叠有端子(13)、绝缘片(14)以及端子(15)的结构,并配置于壳体的凹部。梁部(17)固着于壳体的凹部,将配置于该凹部的层叠体固定。壳体、层叠体以及梁部(17)分别分开准备、并组装。由此,避免如将层叠体嵌件成型的情况那样绝缘片(14)与在成型时成为较高温度的壳体树脂材料接触,抑制绝缘片(14)的劣化、以及由此引起的端子(13)与端子(15)之间的绝缘不良,并提高半导体模块的可靠性。
搜索关键词: 半导体 装置 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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