[发明专利]一种等离子增强化学气相沉积装置及其沉积方法有效

专利信息
申请号: 202211194993.1 申请日: 2022-09-29
公开(公告)号: CN115354310B 公开(公告)日: 2022-12-30
发明(设计)人: 戴建波;刘龙龙 申请(专利权)人: 江苏邑文微电子科技有限公司;无锡邑文电子科技有限公司
主分类号: C23C16/505 分类号: C23C16/505;C23C16/455;C23C16/52
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 张洋
地址: 226400 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种等离子增强化学气相沉积装置及其沉积方法,涉及半导体技术领域。该等离子增强化学气相沉积装置包括沉积室、盖板、测量机构、加热盘、喷气盘和升降机构。盖板盖设于沉积室上,且共同围成沉积空腔,升降机构安装于盖板上,且与喷气盘连接,喷气盘平行间隔地设置于加热盘的上方,升降机构用于沿预设方向带动喷气盘靠近或者远离加热盘,测量机构夹持于喷气盘和加热盘之间,测量机构用于在等离子增强化学气相沉积装置处于工作温度下测量喷气盘与加热盘之间的实际间距。本发明提供的等离子增强化学气相沉积装置能够精确测量工作温度下喷气盘和加热盘之间的间距并对其进行调整,保证沉积膜层的均匀性,提高产品质量。
搜索关键词: 一种 等离子 增强 化学 沉积 装置 及其 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏邑文微电子科技有限公司;无锡邑文电子科技有限公司,未经江苏邑文微电子科技有限公司;无锡邑文电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202211194993.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top