[发明专利]一种高性能芳纶基石墨膜及其制备方法在审
| 申请号： | 202211210655.2 | 申请日： | 2022-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN115583834A | 公开（公告）日： | 2023-01-10 |
| 发明（设计）人： | 刘国隆;徐哲;许辉;曹河文 | 申请（专利权）人： | 浙江中科玖源新材料有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/524 | 分类号： | C04B35/524;C04B35/622 |
| 代理公司： | 合肥金律专利代理事务所(普通合伙) 34184 | 代理人： | 杨霞 |
| 地址： | 321100 浙江省金华*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种高性能芳纶基石墨膜及其制备方法，所述制备方法包括：将芳香族二胺与芳香族二甲酰氯在有机溶剂中缩聚后，加碱除去盐酸，得到芳纶成膜溶液；将所述芳纶成膜溶液成膜后，干燥固化，得到芳纶薄膜；将所述芳纶薄膜高温碳化，石墨化后，即得到所述高性能芳纶基石墨膜。本发明提出的一种高性能芳纶基石墨膜及其制备方法，通过调控芳纶合成单体，制备出了致密、厚薄均匀且分子取向优越的芳纶薄膜，并由此获得一种具有优异机械力学性能和热扩散效率的石墨膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 性能 基石 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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