[发明专利]一种具有自清理功能的静电颗粒收集系统和方法在审
| 申请号： | 202211260074.X | 申请日： | 2022-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN115692260A | 公开（公告）日： | 2023-02-03 |
| 发明（设计）人： | 朱小庆;卢浩;孟庆国;刘帅;刘小波;胡冬冬;许开东 | 申请（专利权）人： | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;B03C3/04;B03C3/80 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 陈月菊 |
| 地址： | 221399 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种具有自清理功能的静电颗粒收集系统和方法，包括中压闸阀、静电吸附网、氮气管路、静电发生器、压力计、真空发生器和控制器；静电吸附网水平安装在腔室本体和APC阀之间的通道内，腔室本体临近静电吸附网的底部上安装有中压闸阀，中压闸阀用于根据控制器的控制指令切换腔室本体和通道之间的连通状态；静电发生器与静电吸附网连接，为静电吸附网提供不同等级的静电电压；压力计安装在通道内，用于实时检测通道内的气压值，将检测到的气压值反馈给控制器；真空发生器和氮气管路分别连通至通道。本发明能够有效消除悬浮颗粒，有效提高芯片品质，就提高芯片生产的良率，给芯片生产企业带来更大的利润。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 清理 功能 静电 颗粒 收集 系统 方法 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
