[发明专利]一种半导体生产设备及其控制方法及装置在审
| 申请号： | 202211280013.X | 申请日： | 2022-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN115612999A | 公开（公告）日： | 2023-01-17 |
| 发明（设计）人： | 余样楠 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/48 | 分类号： | C23C14/48;C23C14/54;C23C14/56;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 李静文 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种半导体生产设备及其控制方法及装置，用以通过大流量气体清洗高温下的反应腔室，从而达到清洁反应腔室内部器件表面的效果，提高半导体产品良率。本申请提供的半导体生产设备，包括反应腔室，所述设备还包括：与所述反应腔室相连的气体输入装置，以及与所述反应腔室相连的气体输出装置；其中，所述气体输入装置用于向所述反应腔室输入气体；所述气体输出装置用于将所述反应腔室内的气体排出；半导体生产控制装置，用于在多个半导体产品的加工间隙，控制所述反应腔室达到预设温度，并持续预设时长，然后控制所述气体输入装置向所述反应腔室输入气体，以及控制所述气体输出装置将所述反应腔室内的气体排出。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 生产 设备 及其 控制 方法 装置 | ||
【主权项】：
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