[发明专利]掩模组件在审
| 申请号： | 202211280390.3 | 申请日： | 2015-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN115840333A | 公开（公告）日： | 2023-03-24 |
| 发明（设计）人： | M·克鲁兹恩卡;马尔滕·M·M·詹森;约根·M·阿泽雷L;埃里克·W·博加特;德克·S·G·布龙;马克·布鲁因;理查德·J·布鲁尔斯;J·德克尔斯;保罗·詹森;穆罕默德·R·卡迈利;R·H·G·克莱默;R·G·M·兰斯博根;M·H·A·里恩德尔斯;马太·利普森;E·R·鲁普斯特拉;约瑟夫·H·莱昂斯;S·鲁;G·范德博世;S·范德黑坎特;S·范德格拉夫;F·范德穆伦;J·F·S·V·范罗;B·L·M-J·K·韦伯罗根 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/62 | 分类号： | G03F1/62;G03F1/64;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种适合用于光刻工艺中的掩模组件，所述掩模组件包括：图案形成装置；和表膜框架，所述表膜框架被配置用以支撑表膜且利用安装件而安装在所述图案形成装置上；其中所述安装件被配置成用以相对于所述图案形成装置悬置所述表膜框架，使得所述所述膜框架与所述图案形成装置之间有间隙；且其中所述安装件在所述图案形成装置与所述表膜框架之间提供以可释放的方式可接合的附接。 | ||
| 搜索关键词： | 模组 | ||
【主权项】：
暂无信息
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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