[发明专利]一种柔性碳膜掩膜在审
申请号: | 202211280502.5 | 申请日: | 2022-10-19 |
公开(公告)号: | CN115480445A | 公开(公告)日: | 2022-12-16 |
发明(设计)人: | 刘成元;李维维 | 申请(专利权)人: | 安徽熙泰智能科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/76 | 分类号: | G03F1/76;G03F1/62 |
代理公司: | 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 | 代理人: | 尹婷婷 |
地址: | 241000 安徽省芜湖市芜湖长江*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明提供了一种柔性碳膜掩膜,所述柔性碳膜掩膜为石墨烯、石墨、碳纳米管、碳纳米材料、金属纳米材料、金属或非金属氧化物纳米材料、有机前驱体碳化膜、碳纤维中的任意一种或多种组成的薄膜,且所述薄膜上带有掩膜图案;其厚度可调性高,可调范围大,且具有很高的易加工性,其上可以制出各种形状的小至纳米尺寸的精细图案,其热传导性好、耐高温、强度大,可通过分子间作用吸附贴合在器件表面,覆盖和揭下都非常容易且不会对器件造成损伤。 | ||
搜索关键词: | 一种 柔性 碳膜掩膜 | ||
【主权项】:
暂无信息
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备