[发明专利]一种高氧化物含量银氧化锡片状触点材料的制备方法在审
申请号: | 202211287793.0 | 申请日: | 2022-10-20 |
公开(公告)号: | CN115747699A | 公开(公告)日: | 2023-03-07 |
发明(设计)人: | 杨昌麟;张秀芳;颜小芳;周克武;王美琪;张宇航;潘杰;柏小平;陈松扬 | 申请(专利权)人: | 浙江福达合金材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C4/08 | 分类号: | C23C4/08;C23C4/137;C22C5/06 |
代理公司: | 温州名创知识产权代理有限公司 33258 | 代理人: | 陈加利 |
地址: | 325000 浙江省温州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种高氧化物含量银氧化锡片状触点材料的制备方法,其技术方案采用采用金属喷镀工艺对浇铸、车削好的锭子进行喷镀,使得锭子表面形成一定厚度的低硬度纯银层,该方法获得的纯银镀层厚度灵活可调,可柔性地适应于不同焊接层厚度要求的片状触点,尤其适用于制作薄纯银焊接层厚度要求的片状触点;其优点是极大提升成品片状触点的表面质量,并可显著提升挤压板材在后续热轧、冷轧成带材过程中的塑性加工能力,极大减少热轧、冷轧过程侧边开裂、断裂异常现象,提升材料的成品率,尤其在制备高氧化物含量银氧化锡片状触点领域优势更为明显。 | ||
搜索关键词: | 一种 氧化物 含量 氧化 片状 触点 材料 制备 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
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