[发明专利]一种降低Ti-V-Ta-Nb系难熔高熵合金中杂质含量的方法有效

专利信息
申请号: 202211296855.4 申请日: 2022-10-21
公开(公告)号: CN115612954B 公开(公告)日: 2023-09-26
发明(设计)人: 靳柯;董亚光;王本鹏;薛云飞;贺新福;豆艳坤 申请(专利权)人: 北京理工大学;中国原子能科学研究院
主分类号: C22F1/18 分类号: C22F1/18;C22F1/02;B32B15/01
代理公司: 北京正阳理工知识产权代理事务所(普通合伙) 11639 代理人: 周蜜
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种降低Ti‑V‑Ta‑Nb系难熔高熵合金中杂质含量的方法,属于高熵合金制备技术领域。该方法是在Ti‑V‑Ta‑Nb系难熔高熵合金板的两个表面固定纯Zr板或者纯Zr箔,然后在惰性气体保护气氛下进行高温处理,利用Zr的吸收作用使Ti‑V‑Ta‑Nb系难熔高熵合金板中的杂质原子扩散Zr板或Zr箔中并与Zr反应形成Zr‑(CNO)相,从而降低Ti‑V‑Ta‑Nb系难熔高熵合金板中游离态杂质元素的含量,由于Zr‑(CNO)相并不是作为第二相分布在难熔高熵合金板中,而且Zr在难熔高熵合金板表面的扩散层厚度也很小,不会对难熔高熵合金板的组织与力学性能产生不利影响。
搜索关键词: 一种 降低 ti ta nb 系难熔高熵 合金 杂质 含量 方法
【主权项】:
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