[发明专利]一种外场全尺寸目标的雷达RCS测量系统有效

专利信息
申请号: 202211309774.3 申请日: 2022-10-25
公开(公告)号: CN115372930B 公开(公告)日: 2023-01-24
发明(设计)人: 吴护林;彭刚;洪韬;张天才;陈知华;李忠盛;徐塱;邓贤明;田进军;项运良;方林全;张小华 申请(专利权)人: 北京测威科技有限公司;中国兵器工业第五九研究所;北京航空航天大学云南创新研究院
主分类号: G01S7/41 分类号: G01S7/41;G01S7/40;G01S13/88
代理公司: 北京三环同创知识产权代理有限公司 11349 代理人: 邵毓琴;赵勇
地址: 100086 北京市海*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明实施方式提供一种外场全尺寸目标的雷达RCS测量系统,涉及外场RCS测量领域。所述测量系统包括:外场RCS测量装置,用于在外场对设置在目标区域的全尺寸目标进行雷达RCS测量;透波罩,其由透波材料制成,用于在进行所述RCS测量时,隔绝所述透波罩外部的外场环境对所述目标区域的背景电平的影响;其中,所述目标区域位于所述透波罩与承载面共同界定的内部空间中,所述目标区域与所述透波罩之间的最小间隔大于第一阈值。通过设置透波罩笼罩设置全尺寸目标的目标区域,可以避免天气等外场环境对目标区域背景电平的影响,保证背景对消技术对目标区域生效。
搜索关键词: 一种 外场 尺寸 目标 雷达 rcs 测量 系统
【主权项】:
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