[发明专利]一种纳米压痕测试后二次定位岩石表面残余压痕的方法在审
| 申请号： | 202211313398.5 | 申请日： | 2022-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN115791477A | 公开（公告）日： | 2023-03-14 |
| 发明（设计）人： | 刘一苇;康勇;胡毅 | 申请（专利权）人： | 武汉大学 |
| 主分类号： | G01N3/42 | 分类号： | G01N3/42;G01N3/06 |
| 代理公司： | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人： | 李炜 |
| 地址： | 430072 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种二次定位岩石表面纳米压痕测试残余压痕的方法，包括以下步骤：S1.在精细抛光后的岩石表面进行标记；S2.在纳米压痕试验仪光学显微镜的下找到标记；S3.借助纳米压痕试验仪内置刻度标尺，确定标记的应力影响范围；S4.在标记附近进行纳米压痕网格测试，记录压痕网格边界相对于标记中心点的位置坐标；S5.进行后续分析，首先在视野中定位到标记，确定各压痕网格的位置；S6.在各压痕网格位置处调整高分辨率设备参数，定位纳米压痕网格的残余压痕标记。本发明针对高度非均质的岩石表面，借助预先标记对纳米压痕网格进行有效定位，实现了在岩石表面快速、精确、高效二次定位残余压痕，方便对岩石表面进行更全面的微观分析。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 压痕 测试 二次 定位 岩石 表面 残余 方法 | ||
【主权项】：
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