[发明专利]流体冷却式反射X射线源在审
| 申请号： | 202211354025.2 | 申请日： | 2022-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN116072489A | 公开（公告）日： | 2023-05-05 |
| 发明（设计）人： | 克劳斯·弗拉切内克;布鲁斯·博尔歇斯 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司有限公司 |
| 主分类号： | H01J35/02 | 分类号： | H01J35/02;H01J35/06;H01J35/10;H01J35/12;H01J35/16 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 王芳 |
| 地址： | 美国加利福尼亚州都柏林*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在反射靶X射线源的操作期间，必须从许多组件中移除热。电子束必须被转向至靶并且可沿此路径与结构相互作用。在靶本身中也产生热。这可能是过量的，因为只有非常小百分比的电子束的能量被转换成X射线。最后，X射线必须通过窗离开真空，窗也可由X射线、反射电子和来自靶的辐射热加热。水冷式反射X射线源为定心孔、X射线靶和/或出口窗提供水或其他流体冷却。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 冷却 反射 射线 | ||
【主权项】：
暂无信息
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