[发明专利]一种用于CMP研磨的保持环在审
| 申请号： | 202211375040.5 | 申请日： | 2022-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN115555988A | 公开（公告）日： | 2023-01-03 |
| 发明（设计）人： | 刘健;王俊 | 申请（专利权）人： | 荆州市还祥特种材料有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/32 | 分类号： | B24B37/32 |
| 代理公司： | 上海科企达专利代理事务所(普通合伙) 31501 | 代理人： | 张彩霞 |
| 地址： | 434035 湖北省*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于CMP研磨的保持环，包括金属环和磨损树脂环，所述金属环与磨损树脂环采用燕尾槽式结构连接，本发明的化学机械抛光设备的保持环同时满足粘结型环和整体包覆型环的优点，而且还满足了金属环回收的问题，还可以防止渗漏，通过燕尾槽结构与燕尾结构扣合一起，成本低、工艺简单。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 cmp 研磨 保持 | ||
【主权项】：
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