[发明专利]光酸产生剂、包括其的光致抗蚀剂组合物及使用光酸产生剂形成图案的方法在审
| 申请号： | 202211385369.X | 申请日： | 2022-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN116165842A | 公开（公告）日： | 2023-05-26 |
| 发明（设计）人： | 金旻相;高行德;H.金;郭允铉;金惠兰;李恩庆;A.田 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;C08F220/38;C08F220/18 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 金拟粲 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
提供光酸产生剂、包括其的光致抗蚀剂组合物以及通过使用光酸产生剂形成图案的方法。所述光酸产生剂包括在曝光时产生酸的单体和酸不稳定单体的共聚物，所述酸不稳定单体对于显影溶剂的溶解性通过经由酸的分解而改变，其中所述共聚物由式1表示，其中，在式1中，x、y、L、A |
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| 搜索关键词： | 产生 包括 光致抗蚀剂 组合 使用 形成 图案 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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