[发明专利]一种具有室温自修复能力的银纳米线/MXene复合透明电磁屏蔽薄膜的制备方法在审

专利信息
申请号: 202211392068.X 申请日: 2022-11-08
公开(公告)号: CN115762898A 公开(公告)日: 2023-03-07
发明(设计)人: 朱嘉琦;王卓超;曹文鑫;孙春强;姬栋超;宋梓诚;杨磊;高岗;张天宇;王永杰 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: H01B13/00 分类号: H01B13/00
代理公司: 哈尔滨华夏松花江知识产权代理有限公司 23213 代理人: 侯静
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 一种具有室温自修复能力的银纳米线/MXene复合透明电磁屏蔽薄膜的制备方法,本发明涉及一种透明电磁屏蔽薄膜的制备方法。解决现有自修复电磁屏蔽材料透明性、电磁屏蔽性、机械稳定性及自修复性能不佳的问题。方法:一、自修复聚氨酯基底的制备;二、银纳米线透明导电薄膜的制备;三、银纳米线‑MXene薄膜的制备;四、透明电磁屏蔽薄膜的后处理。本发明用于具有室温自修复能力的银纳米线/MXene复合透明电磁屏蔽薄膜的制备。
搜索关键词: 一种 具有 室温 修复 能力 纳米 mxene 复合 透明 电磁 屏蔽 薄膜 制备 方法
【主权项】:
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