[发明专利]抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、及抗蚀剂下层膜的形成方法在审
| 申请号： | 202211394286.7 | 申请日： | 2022-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN116107167A | 公开（公告）日： | 2023-05-12 |
| 发明（设计）人： | 佐藤裕典;郡大佑;小林直贵;矢野俊治 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;G03F7/09;G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、及抗蚀剂下层膜的形成方法。本发明提供具有优良的填埋特性、密合性、及良好的平坦化特性的抗蚀剂下层膜材料、使用此材料的图案形成方法、及抗蚀剂下层膜的形成方法。一种抗蚀剂下层膜材料，是多层抗蚀剂法中使用的抗蚀剂下层膜材料，其特征为含有(A)具有下列通式(1)表示的结构单元的树脂、及(B)有机溶剂，且前述树脂的含量为20质量％以上。 |
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| 搜索关键词： | 抗蚀剂 下层 材料 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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