[发明专利]一种清洗液的制备方法在审
| 申请号： | 202211413424.1 | 申请日： | 2022-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN115710536A | 公开（公告）日： | 2023-02-24 |
| 发明（设计）人： | 王溯;蒋闯;冯强强;张怡;任发强;邢乃观 | 申请（专利权）人： | 上海新阳半导体材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/722 | 分类号： | C11D1/722;C11D3/04;C11D3/20;C11D3/26;C11D3/28;C11D3/30;C11D3/33;C11D3/34;C11D3/37;C11D3/60;C11D11/00;C08F290/06;C08F220/56;C08F220/38 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 陈卓 |
| 地址： | 201616 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种清洗液的制备方法。该制备方法包括如下步骤：将所述的清洗液中的各个组分混合，即得到所述的清洗液；所述的清洗液由下述原料制得，所述的原料包括下列质量分数的组分：醇胺、5‑20％羟胺、半胱氨酸、0.01‑0.05％水溶性高分子、有机碱、螯合剂、缓蚀剂、羧酸铵、0.01‑1％EO‑PO聚合物L81、0.01‑2％1‑(苯并三氮唑‑1‑甲基)‑1‑(2‑甲基苯并咪唑)以及水，水补足余量。采用本发明的清洗液的制备方法制得的清洗液可以清洗的残留物范围广，且一般对曝露的基板材料(例如，曝露的低k介质材料、金属氧化物、金属、金属氮化物及其合金)无腐蚀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 制备 方法 | ||
【主权项】：
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