[发明专利]一种X光机曝光剂量控制方法及电子装置在审
| 申请号： | 202211444960.8 | 申请日： | 2022-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN116035602A | 公开（公告）日： | 2023-05-02 |
| 发明（设计）人： | 李海枫 | 申请（专利权）人： | 海辉医学（北京）科技有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00;G05B11/42 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 董永辉;曹素云 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区经*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请属于X光机技术领域，公开一种X光机曝光剂量控制方法及电子装置。在曝光的第N帧，X射线发出后检测MA反馈值并与工作站下发MA值比较；若MA误差值小于或等于0.1倍工作站下发MA值，不进行MA校准；若MA误差值大于0.1倍工作站下发MA值，且小于0.3倍工作站下发MA值，用积分分离PID控制算法修正MA，若MA误差值大于或等于0.3倍工作站下发MA值，发出报警；若第N帧曝光结束，积分分离PID控制算法未完成MA值修正，以设定时间增加曝光一次，使积分分离PID控制算法完成MA值修正。本申请采用积分分离PID控制算法来调节X光机的MA值，避免采用PID控制使MA调节过大，产生多余剂量辐射的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 剂量 控制 方法 电子 装置 | ||
【主权项】：
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