[发明专利]化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法在审
| 申请号： | 202211459788.3 | 申请日： | 2022-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN116136645A | 公开（公告）日： | 2023-05-19 |
| 发明（设计）人： | 福岛将大;提箸正义;山田健司;片山和弘 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/039;C08F220/22;C08F212/14;C08F220/38 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供在使用高能射线的光学光刻中为高感度且LWR及CDU有所改善的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用此组成物的图案形成方法。一种化学增幅抗蚀剂组成物，包含：(A)聚合物P，因酸作用而改变对于显影液的溶解性，包含具有含有预定的含氟原子的芳香环的酸不稳定基团的重复单元、具有苯酚性羟基的重复单元及预定的因曝光而产酸的重复单元；(B)鎓盐型淬灭剂；及(C)溶剂。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 增幅 抗蚀剂 组成 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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