[发明专利]纳米压印母模的修复方法在审
申请号: | 202211480983.4 | 申请日: | 2022-11-24 |
公开(公告)号: | CN116141548A | 公开(公告)日: | 2023-05-23 |
发明(设计)人: | 尹亚格;李莹;吾晓;韩兴君 | 申请(专利权)人: | 歌尔光学科技有限公司 |
主分类号: | B29C33/72 | 分类号: | B29C33/72 |
代理公司: | 北京博雅睿泉专利代理事务所(特殊普通合伙) 11442 | 代理人: | 田露 |
地址: | 261061 山东省潍坊市高新区清池街*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请公开了一种纳米压印母模的修复方法,所述纳米压印母模由模板胶制成,所述纳米压印母模附着有待清洗去除的子膜胶;所述模板胶为有机硅树脂,所述子模胶为聚酯树脂;所述方法包括:将碱性清洗液与纯净水混合均匀以对所述碱性清洗液进行稀释处理;使用经过稀释处理的碱性清洗液浸泡所述纳米压印母模以溶解子膜胶;使用纯净水对所述纳米压印母模进行清洗以去除子膜胶。 | ||
搜索关键词: | 纳米 压印 修复 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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