[发明专利]一种单光子雪崩二极管及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202211481931.9 申请日: 2022-11-24
公开(公告)号: CN115528128A 公开(公告)日: 2022-12-27
发明(设计)人: 马静;刘超晖;兰潇健;马四光 申请(专利权)人: 季华实验室
主分类号: H01L31/107 分类号: H01L31/107;H01L31/0232;H01L31/18
代理公司: 北京开阳星知识产权代理有限公司 11710 代理人: 姚金金
地址: 528200 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本公开涉及一种单光子雪崩二极管及其制备方法,该单光子雪崩二极管包括:衬底层、器件层以及非周期性光栅;器件层内嵌于衬底层内,非周期性光栅设置于器件层未被衬底层包覆的表面;非周期性光栅用于使入射的光线发生衍射和共振耦合;器件层用于将入射光信号进行光电响应生成电信号。由此,通过设置衬底层、器件层以及非周期性光栅,形成具有非周期性光栅的单光子雪崩二极管,基于非周期性光栅对入射的光线的衍射和共振耦合作用,将光耦合到器件层提升了光子吸收效率,增强了光吸收效果,利于单光子雪崩二极管实现高灵敏度的光电探测。
搜索关键词: 一种 光子 雪崩 二极管 及其 制备 方法
【主权项】:
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